标准编号：GB/T 14146-2009，标准状态：现行。 本标准规定了硅外延层载流子浓度汞探针电容?电压测量方法。
本标准适用于同质的硅外延层载流子浓度测量。测量范围为:4×1013cm-3~8×1016cm-3。
本标准测试的硅外延层的厚度必须大于测试偏压下耗尽层的深度。
本标准也可适用于硅抛光片的载流子浓度测量。
| 英文名称： | Silicon epitaxial layers-determination of carrier concentration-mercury probe voltages-capacitance method |
| 替代情况： | 替代GB/T 14146-1993 |
| 中标分类： | 冶金>>半金属与半导体材料>>H80半金属与半导体材料综合 |
| ICS分类： | 电气工程>>29.045半导体材料 |
| 发布部门： | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： | 2009-10-30 |
| 实施日期： | 2010-06-01 |
| 首发日期： | 1993-02-06 |
| 提出单位： | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会 |
| 主管部门： | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会 |
| 起草单位： | 南京国盛电子有限公司、宁波立立电子股份有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心 |
| 起草人： | 马林宝、唐有青、刘培东、李静、金龙、吕立平 |
| 计划单号： | 20065633-T-469 |
| 页数： | 12页 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2010-06-01 |
本标准代替GB/T14146-1993《硅外延载流子浓度测定 汞探针电容?电压法》。
本标准与GB/T14146-1993相比,主要有如下变动:
---测量范围由原1013cm-3~1018cm-3改为4×1013cm-3~8×1016cm-3,并增加了对外延层厚度的测试要求和抛光片的测试适用性;
---增加了引用标准;
---增加了干扰因素;
---试剂中氢氟酸(ρ1.15g/mL)改为氢氟酸(分析纯),删除硝酸(ρ1.4g/mL),增加双氧水(分析纯),去离子水电阻率由大于2 MΩ·cm 改为大于10 MΩ·cm;
---对测量仪器及环境,样品处理,仪器校准,测量步骤的内容进行了全面修改;
---删除测量结果的计算;
---增加了重复性和再现性;
---增加了附录硅片接触良好测试的判定指标。
本标准的附录A 为规范性附录。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。
本标准起草单位:南京国盛电子有限公司、宁波立立电子股份有限公司、信息产业部专用材料质量监督检验中心。
本标准主要起草人:马林宝、唐有青、刘培东、李静、金龙、吕立平。
本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
---GB/T14146-1993。
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T1552 硅、锗单晶电阻率测定直排四探针法
GB/T14847 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
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