标准编号：GB/T 16879-1997，标准状态：现行。 本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩膜制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。
| 英文名称： | Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment |
| 中标分类： | 电子元器件与信息技术>>电子工业生产设备>>L97加工专用设备 |
| ICS分类： | 电子学>>31.020电子元件综合 |
| 采标情况： | SEMI P21-1992,IDT |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1997-06-20 |
| 实施日期： | 1998-03-01 |
| 首发日期： | 1997-06-20 |
| 复审日期： | 2004-10-14 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 起草单位： | 中国科学院微电子中心 |
| 页数： | 平装16开， 页数：9， 字数：12千字 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 书号： | 155066.1-14348 |
| 出版日期： | 2004-04-11 |
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