标准编号：GB/T 12332-2008，标准状态：现行。 本标准规定了黑色和有色金属上的工程用镍和镍合金电镀层的要求。

本标准不适用于镍为小组分的二元镍合金电镀层。

本标准等同采用ISO4526:2004《金属覆盖层 工程用镍电镀层》(英文版)。

本标准根据ISO4526:2004翻译起草。

为了便于使用,本标准做了下列编辑性修改:

---删除国际标准的前言,增加了我国标准前言;

---本国际标准一词改为本标准;

---引用了与国际标准相对应的国家标准。

本标准代替GB/T12332-1990《金属覆盖层 工程用镍电镀层》。

本标准与GB/T12332-1990相比主要变化如下:

---增加了引言;

---增加了标识部分;

---删除了工程用镍电镀层的特性、用途及应用实例;

---修改了瓦特镍和氨基磺酸镍槽液中电镀层的力学性能;

---增加了热水孔隙率试验、改进型孔隙率试剂试验;

---增加了不同用途的附加资料。

本标准的附录C、附录D 为规范性附录,附录A、附录B、附录E 为资料性附录。

本标准由中国机械工业联合会提出。

本标准由全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会(SAC/TC57)归口。

本标准起草单位:武汉材料保护研究所、广州市达志化工科技有限公司、浙江新丰控股有限公司、杭州天堂伞业集团有限公司。

本标准主要起草人:张德忠、毛祖国、蔡志华、郑秀林、郑秀海、王奇伟、何杰、贾建新。

本标准所代替标准的历次版本发布情况为:

---GB/T12332-1990。下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。

GB/T3138 金属镀覆和化学处理与有关过程术语(GB/T3138-1995,neqISO2079:1981)

GB/T4955 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 阳极溶解库仑法(GB/T4955-2005,ISO2177:2003,IDT)

GB/T5270 金属基体上的金属覆盖层 电沉积和化学沉积层 附着力强度试验方法评述(GB/T5270-2005,ISO2819:1980,IDT)

GB/T6461 金属基体上金属和其他无机覆盖层 经腐蚀试验后的试样和试件的评级(GB/T6461-2002,ISO10289:1999,IDT)

GB/T6462 金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法(GB/T6462-2005,ISO1463:2003,IDT)

GB/T6463 金属和其他无机覆盖层厚度测量方法评述(GB/T6463-2005,ISO3882:2003,IDT)

GB/T9790 金属覆盖层及其他有关覆盖层 维氏和努氏显微硬度试验(GB/T9790-1988,neqISO4516:1980)

GB/T12334 金属和其他非有机覆盖层 关于厚度测量的定义和一般规则(GB/T12334-2001,ISO2064:1993,IDT)

GB/T12609 电沉积金属覆盖层和相关精饰 计数检验抽样程序(GB/T 12609-2005,ISO4519:1980,IDT)

GB/T13744 磁性和非磁性基体上的镍电镀层厚度的测量(GB/T13744-1992,idtISO2361:1982)

GB/T15821 金属覆盖层 延展性测量方法(GB/T15821-1995,eqvISO8401:1986)

GB/T16921 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X 射线光谱法(GB/T16921-2005,ISO3497:2000,IDT)

GB/T19349 金属和其他无机覆盖层 为减少氢脆危险的钢铁预处理(GB/T19349-2003,ISO9587:1999,IDT)

GB/T19350 金属和其他无机覆盖层 为减少氢脆危险的涂覆后钢铁的处理(GB/T19350-2003,ISO9588:1999,IDT)

GB/T20015 金属和其他无机覆盖层 电镀镍、自催化镀镍、电镀铬及最后精饰 自动控制喷丸硬化前处理(GB/T20015-2005,ISO12686:1999,MOD)

GB/T20018 金属和非金属覆盖层 覆盖层厚度测量 β射线背散射法(GB/T20018-2005,ISO3543:2000,IDT)

请到 http://www.bzxzk.net/search/ 搜索下载标准下载库的标准