标准编号：SJ 20714-1998，标准状态：现行。 本规范规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。本规范适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓抛光片亚损伤层的定性测量。
| 英文名称： | Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction |
| 中标分类： | >>>>L5971 |
| 发布部门： | 中华人民共和国电子工业部 |
| 发布日期： | 1998-03-18 |
| 实施日期： | 1998-05-01 |
| 归口单位： | 中国电子技术标准化研究所 |
| 起草单位： | 电子工业部第四十六研究所 |
| 起草人： | 张世敏、郝建民、段曙光 |
| 页数： | 4页 |
| 出版社： | 电子工业出版社 |
| 出版日期： | 1998-04-01 |
| 标准前页： | 浏览标准前文 || 下载标准前页 |
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