标准编号:YS/T 718-2009,标准状态:现行。 本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
英文名称: | Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating |
中标分类: | 冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物 |
ICS分类: | 冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品 |
发布部门: | 中华人民共和国工业和信息化部 |
发布日期: | 2009-12-04 |
实施日期: | 2010-06-01 |
提出单位: | 全国有色金属标准化技术委员会 |
归口单位: | 全国有色金属标准化技术委员会 |
主管部门: | 全国有色金属标准化技术委员会 |
起草单位: | 金川集团有限公司 |
起草人: | 汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉 |
页数: | 8页 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 2010-06-01 |
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口.
本标准起草单位:金川集团有限公司.
本标准主要起草人:汪锦瑞、宋谋通、郭大鹏、李娟、林秀英、吴亚辉.GB/T1479 金属粉末松装密度的测定 第1部分:漏斗法
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